Memulihkan monopoli negara asing, Cina mengambil teknologi utama "membuat inti"
"PM2.5" adalah partikel kecil yang akrab yang kurang dari atau sama dengan diameter 2.5 mikron. Tetapi kami mengembangkan bahan kunci dari chip manufaktur ini, dan jika Anda memasukkan debu PM1.0 dalam proses, bahan adalah limbah, dan tidak dapat diterapkan pada chip. " Dalam kalimat sederhana, Tang Yilin mengatakan bahan inti baru, "ultra murni" dan "ultra - seragam" - "foto dengan resin fenolik linier" untuk lingkungan yang keras. Pada awal Mei, steer basis produksi resin fenolik terbesar di Asia mengatakan ilmu pengetahuan dan Teknologi Harian yang dibutuhkan 26 tahun untuk mengembangkan resin elektronik kelas atas untuk produksi chip. Para ahli percaya bahwa bahan high-end ini telah memecahkan monopoli Amerika Serikat dan Jepang, dan dapat sangat mempercepat perkembangan chip otonom China. Keberhasilan "fotoresist dengan resin fenolik linier" telah membuat beberapa perusahaan fotoresist ("chip" perusahaan hulu) datang ke bagian atas bahan "core", ilmu pengetahuan dan Teknologi Daily reporter belajar.
Setelah 26 tahun eksplorasi, materi kunci "pengambilan inti" akhirnya menjadi penjamuan. Tang Yilin mengatakan: "ketika kita dapat mengembangkan dan berhasil adalah bahwa tim penelitian ilmiah memiliki ketahanan tanpa melanggar dan tidak pernah melihat kembali. Ini dapat memberikan beberapa referensi untuk penelitian chip Cina dengan tanggung jawab berat. Sitemap
